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| 일본의 프린터·카메라 제조업체인 캐논이 저가형 신기술을 내세워 반도체 제조장비 선두 주자인 네덜란드 ASML에 도전장을 내밀었다. (사진=연합뉴스) |
[알파경제=(고베) 우소연 특파원] 니혼게이자이신문(닛케이)에 의하면 캐논은 26일 차세대 반도체 제조 장치를 처음으로 출하한다고 발표했다. 이 장치는 '나노 임프린트'라는 독자적인 기술을 사용해 웨이퍼 위에 회로 패턴을 그리는 방식이다.
기존의 빛을 사용하는 수법과 달리, 나노 임프린트 기술은 전력 소비와 비용을 크게 줄일 수 있는 것이 강점이다.
이를 통해 반도체 제조 공정에서의 효율성을 높이고 보급 확대를 목표로 한다.
이 장치는 텍사스대 오스틴교가 지원하고 텍사스주 및 인텔 등 주요 반도체 기업들이 참여하는 컨소시엄 '텍사스·인스티튜트·포·일렉트로닉스'에 납부될 예정이다.
현재 반도체 제조에서는 강한 빛을 사용해 회로를 그리는 방법이 일반적인데 캐논의 새로운 장치는 회로 패턴을 새긴 형을 '도장'처럼 누르는 원리를 채택하고 있다.
이 방식은 구조가 단순하며, 기존 방법에 비해 전력 소비를 약 10분의 1로 줄일 수 있다. 또한 복잡한 3차원 회로 패턴이라도 한 번의 날인으로 그릴 수 있어 효율성이 뛰어나다.
캐논은 2014년부터 이 기술 개발을 본격화했으며, 23년 10월부터 판매를 시작했다. 이번 출하는 발매 후 첫 번째 사례가 된다.
캐논 광학기기 사업본부의 이와모토 카즈노리 부사업본부장은 "3~5년 이내에 연 십여 대의 판매를 목표로 한다"고 밝혔다.
그러나 미세한 입자의 쓰레기가 부착되면 불량품이 발생할 수 있기 때문에, 쓰레기 제거 기술 등의 개선이 필요하다.
또한 나노 임프린트 수법에 대응하는 소재 개발에서도 타사와의 협력도 중요해진다.
캐논은 키옥시아와 다이니혼 인쇄와 같이 협력해 개발을 이어 왔으며 앞으로도 이 같은 파트너들과 협력해 더욱 발전된 기술을 선보일 계획이다.
알파경제 우소연 특파원(wsy0327@alphabiz.co.kr)
